인큐베이터,초음파,치아,치아 교정
도 3에 도시된 아크 이온 플레이팅 장치(20)는 가스를 유입시킬 수 있는 가스 유입구와 가스를 유출시킬 수 있도록 진공펌프(23)와 연결된 가스 유출구가 마련된 챔버(21)와, 챔버(21) 내의 일측에 하나 또는 복수개가 장착되어 아크 증발원인 합금타겟(25)을 아크방전에 의해 용융 및 증발시키는 아크 발생원(27)과, 피증착물인 금속기재(100)를 지지하고 가속전자에 의해 이온화된 물질을 끌어당기도록 바이어스 발생원(29)을 통해 음()전위 바이어스 전압이 인가되는 홀더(28)를 포함하여 구성된다.