임플란트,유량계,치과,유전체
한편, 도면에 도시되어 있지 않지만 본 발명에 따른 치과용 임플란트의 저압 플라즈마 표면처리장치는 가스혼합부(79)로부터 챔버(20) 내부의 공간부로 혼합된 가스가 공급될 때, 챔버(20) 내부에 장착된 거치부(30)에 의해 가스의 흐름에 간섭이 발생하는 것을 방지 및 챔버(20) 내부로 공급되는 가스를 챔버(20) 내부로 균일하게 방사상으로 분산시킬 수 있도록 챔버(20) 내부의 가스혼합부(79)의 토출구 전방에 설치되는 가스분산부를 더 구비한다.