Fyzikální depozice z plynné fáze
Fyzikální depozice z plynné fáze ( Physical Vapour Deposition, zkratka PVD) je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik chemické depozice, kdy jsou reaktanty v plynné fázi).

Mezi tyto techniky patří:

 Vakuové napařování
 Depozice elektronovým svazkem
 Pulsní laserová depozice (PLD)
 Naprašování

Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve vakuu či kontrolované atmosféře při tlacích 10−4 až 100 Pa.

Externí odkazy 
 

Fyzika kondenzovaného stavu
Povrchové úpravy