Dünyanın ilk Xe plasma kaynağı olan FIB sistemleri ile SEM teknolojisini tam entegre eden ve 2 μA e kadar yüksek akım sağlayarak geleneksel Ga kaynaklarına göre 50 kat daha fazla püskürtme oranı sağlar ve böylece yüksek hacme sahip malzemeler kolaylıkla analiz edilebilir.
Odaklanmış iyon demet sütunu kullanılan bu yeni nesil taramalı elektron mikroskopları daha hızlı görüntü eldesi için geliştirilen son teknoloji elektronik kaynakları kullanmaktadır.