A thermal processing unit of the present invention includes: a reaction container which an object to be processed is conveyed into and from; a process-gas introducing part for introducing a process gas into the reaction container; a replacement-gas introducing part for introducing a replacement gas into the reaction container, the replacement-gas introducing part being independent of the process-gas introducing part; and a discharging part for discharging a gas in the reaction container. A controlling part is connected to the process-gas introducing part, the replacement-gas introducing part and the discharging part. The controlling part is adapted to control the discharging part so as to lower a pressure in the reaction container lower than a pressure at a thermal process, then control the process-gas introducing part and the replacement-gas introducing part so as to stop introducing the process gas and introduce the replacement gas into the reaction container as well as control the discharging part so as to raise the pressure in the reaction container higher than the pressure at the thermal process, and then control the discharging part so as to lower the pressure in the reaction container lower than the pressure at the thermal process.
본 발명의 열처리 장치는, 피처리체가 반입 및 반출되는 반응 용기와, 상기 반응 용기 내에 처리 가스를 도입하기 위한 처리 가스 도입부와, 상기 처리 가스 도입부와는 별개로 설치되고, 상기 반응 용기 내에 치환용 가스를 도입하기 위한 치환용 가스 도입부와, 상기 반응 용기 내의 가스를 배출하기 위한 배기부를 구비한다. 상기 처리 가스 도입부, 상기 치환용 가스 도입부 및 상기 배기부에는 제어부가 접속되어 있다. 제어부는 상기 배기부를 제어하여 상기 반응 용기 내의 압력을 열처리시 보다도 낮게 하고, 다음에 상기 처리 가스 도입부 및 상기 치환용 가스 도입부를 제어하여 상기 처리 가스의 도입을 정지하여 상기 반응 용기 내에 치환용 가스를 도입하는 동시에 상기 배기부를 제어하여 상기 반응 용기 내의 압력을 열처리시 보다도 높게 하고, 다음에 상기 배기부를 제어하여 상기 반응 용기 내의 압력을 열처리시 보다도 낮게 하도록 되어 있다.