wˌɛn ðə dˌɛpəzˈɪʃən ɹɪˈækʃən tˈeɪks plˈeɪs ɔnðə hˈɑːt sˈʌbstɹeɪt sˈɜːfɪs, ðə fˈɪlmz kæn dɪvˈɛləp ɐn ɪntˈɜːnəl tˈɛnsəl stɹˈɛs dˈuː tə ðə mɪsmˈætʃ ɪnðə kˌoʊɪfˈɪʃənt ʌv θˈɜːməl ɛkspˈænʃən bᵻtwˌiːn ðə sˈʌbstɹeɪt ænd ðə fˈɪlm.
When the deposition reaction takes place on the hot substrate surface, the films can develop an internal tensile stress due to the mismatch in the coefficient of thermal expansion between the substrate and the film.