Hier werden flüchtige Aluminiumalkyle (Trimethylaluminium, Triethylaluminium) als Vorstufen zur CVD (chemical vapor deposition) von Aluminiumoxid verwendet, das man als Isolator und Ersatz für das nicht ausreichend isolierende Siliciumdioxid einsetzt.
hˈiːɾ vˌɛɾdən flˈyçtɪɡə ˈɑluːmˌiːniːˌuːmalkˌyːlə tɾˌiːmeːtˌyːlaluːmˈiːniːˌʊm, tɾˌiːtyːlˌɑluːmˈiːniːˌʊm als fˈoːɾʃtˌuːfən tsuːɾ tsˌeːfˌaʊdˈeː çˈeːmiːkˌɑːl vˈɑpoːɾ dˌeːpoːziːtsjˈoːn fɔn ˌɑluːmˌiːniːˌuːmɔksˈiːt fɛɾvˈɛndət, das man als ˌiːzoːlˈɑtoːɾ ʊnt ɛɾzˈats fyːɾ das nˈɪçt ˈaʊsrˌaɪçənt ˌiːzoːlˈiːrəndə zˌiːliːkˌiːʊmdˌɪoːksˈiːt ˈaɪnzˌɛtst.