Litografia
Litografia eli kivipaino, kivipainanta tai kivipainotaide on tasaiselle pinnalle käytettävä painomenetelmä. Menetelmällä voidaan painaa tekstiä tai kuvia paperille tai jollekin muulle sopivalle materiaalille. Optinen litografia on litografian muoto, jota käytetään puolijohteiden ja mikrosysteemijärjestelmien valmistamissa.
Diffraktio
Vastaavasti linssin kautta voidaan lähettää sähkömagneettista säteilyä johonkin pisteeseen. Yllä oleva kaava kertoo, minkä kokoiseen pyöreään alueeseen säteily voidaan tarkasti kohdentaa diffraktiorajoitetulla linssillä. Tällä on merkitystä esimerkiksi prosessorien valmistuksessa, joka tehdään optisella litografialla. Litografiassa käytetään muottina toimivaa valokuvamaskia, johon on "piirretty" tummin ja läpinäkyvin aluein prosessoriin tehtävät komponentit. Valokuvamaski toimii sähkömagneettista säteilyä (yleensä käytetään UV-säteilyä) kohdentavana linssinä, joka kohdentaa nämä kuviot puolijohdemateriaalista tehtyyn erittäin sileään levyyn paljon maskia pienemmälle alueelle. Materiaali on käsitelty aineella, joka syövyttää eli etsaa säteilyä saaneita alueita, mutta varjoalueet jäävät syöpymättä. Hallitulla etsauksella saadaan puolijohteeseen tehtyä mikroskooppisen pienet kolmiulotteiset johdinkuviot. Prosessorien tehostamiseksi suhteessa niiden kokoon (katso Mooren laki), täytyy litografian valokuvamaskilla kohdentaa säteilyä yhä pienempiin kohteisiin. Säteilyn aallonpituus kuitenkin rajoittaa yllä olevan kaavan mukaisesti maskilla saatavien johteiden kokoa ja siten prosessorien laskentatehoa. Prosessorien tehoa rajoittavat tosin monet muutkin käytännön ja teoreettiset tekijät.