Litografia
Litografia eli kivipaino, kivipainanta tai kivipainotaide on tasaiselle pinnalle käytettävä painomenetelmä. Menetelmällä voidaan painaa tekstiä tai kuvia paperille tai jollekin muulle sopivalle materiaalille. Optinen litografia on litografian muoto, jota käytetään puolijohteiden ja mikrosysteemijärjestelmien valmistamissa.
Elektronisuihkulitografia
Elektronisuihkulitografiassa (Electron beam lithography, EBL) resisti valotetaan elektroneilla joko suorakirjoitus- tai projektiomenetelmällä. Suorakirjoituksessa resistin valotus tapahtuu piste kerrallaan sarjamuodossa, joten prosessi on joustava mutta hidas. Se tarjoaa erittäin hyvän resoluution, joka on parhailla laitteilla noin 20 nm. Käyttötarkoituksia suorakirjoitukselle ovat optisen litografian maskien teko sekä tutkimus-, tuotekehitysprosessit ja piensarjatuotanto. Projektioprosessissa resisti valotetaan pyyhkäisemällä elektronisuihkulla maskin yli rivi kerrallaan, ja se sopii käytettäväksi kun tuotantomäärät ovat liian pieniä optiseen litografiaan. Etuina suorakirjoitukseen nähden ovat nopeampi prosessi ja maskin kuvioiden skaalautuminen kuten optisessa projektiolitografiassa. Viivanleveys on pienimmillään noin 60 nm.