(권광호) : 저자 - DBpia
김태련 (프롬서티)
A. M. Efremov (대한전자공학회)
권광호 (Kwang-Ho Kwon)
#광통신 모듈
#단일칩
#ASIC 설계
#CMOS 트랜시버
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광통신 모듈용 단일칩 CMOS 트랜시버의 설계 전자공학회논문지-SD 2004 33 0
Mechanisms of Cl₂ Molecules Dissociation in a Gas Discharge Plasma in Mixtures with Ar, O₂. N₂ JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE 2001 4 0
Cl2 / Ar 가스 플라즈마에 O2 첨가에 따른 Pt 식각 특성 연구 ( The Study on the Etching Characteristics of Pt Thin Film by O2 Addition to Cl2 / Ar Gas Plasma ) 전자공학회논문지-D 1999 38 0
유도 결합 BCI3 / CI2 플라즈마내에서 Pt 박막의 건식 식각 ( Dry Etching of Pt Thin Film in Inductive Coupled BCI3 / CI2 Plasmas ) 대한전자공학회 학술대회 1998 0 0
유도 결합 BCI₃/CI₂ 플라즈마내에서 Pt 박막의 건식 식각 대한전자공학회 학술대회 1998 1 0
초고집적 소자 제조를 위한 건식 식각 기술 동향 전자공학회지 1991 29 0
광통신 모듈용 단일칩 CMOS 트랜시버의 설계 전자공학회논문지-SD 2004 33 0 2 0 14 3 14
Mechanisms of Cl₂ Molecules Dissociation in a Gas Discharge Plasma in Mixtures with Ar, O₂. N₂ JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE 2001 4 0 0 0 2 2 0
Cl2 / Ar 가스 플라즈마에 O2 첨가에 따른 Pt 식각 특성 연구 ( The Study on the Etching Characteristics of Pt Thin Film by O2 Addition to Cl2 / Ar Gas Plasma ) 전자공학회논문지-D 1999 38 3 2 3 2 10 18
유도 결합 BCI₃/CI₂ 플라즈마내에서 Pt 박막의 건식 식각 대한전자공학회 학술대회 1998 1 0 1 0 0 0 0
Al ( Cu 1% ) 플라즈마 식각후 fluorine 처리에 의한 passivation 막 형성 ( The formation of the passivation layer by the fluorine treatment after Al ( Cu 1% ) plasma etching ) 전자공학회논문지-D 1998 42 3 6 1 8 11 13
초고집적 소자 제조를 위한 건식 식각 기술 동향 전자공학회지 1991 29 2 0 9 1 4 13
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채상훈, 김태련, 권광호
Mechanisms of Cl₂ Molecules Dissociation in a Gas Discharge Plasma in Mixtures with Ar, O₂. N₂
A. M. Efremov, Kwang-Ho Kwon
Cl2 / Ar 가스 플라즈마에 O2 첨가에 따른 Pt 식각 특성 연구 ( The Study on the Etching Characteristics of Pt Thin Film by O2 Addition to Cl2 / Ar Gas Plasma )
김창일, 권광호
유도 결합 BCI3 / CI2 플라즈마내에서 Pt 박막의 건식 식각 ( Dry Etching of Pt Thin Film in Inductive Coupled BCI3 / CI2 Plasmas )
김남훈, 김창일, 권광호, 장의구
유도 결합 BCI₃/CI₂ 플라즈마내에서 Pt 박막의 건식 식각
초고집적 소자 제조를 위한 건식 식각 기술 동향
권광호, 김보우