„Die oberflächennahe Schicht ist quasi völlig frei von unerwünschten Dotanten, Störungen der kristallinen Strukturen, von Rekombinationszentren sowie komplexen ''Sauerstoffclustern'', letzteres insbesondere auch, um Degradationseffekte zu minimieren.“<ref>[http://www.leibniz-institut.de/cms/pdf2/Merker_Silizium_das_hightech_Erfolgsmaterial.pdf Silicium – das high-tech Erfolgsmaterial der Mikroelektronik erobert neue Einsatzgebiete](PDF; 632 KB), ''www.leibniz-institut.de'', abgerufen am 11.September 2013 </ref>
''[[Fachsprache]]:'' als einheitliches Ganzes zu betrachtende Menge von gruppierten, geladenen [[Sauerstoffatom]]en oder -[[Molekül|molekül]]en