section_heading: Električna izolacija
paragraph_text: Za njegovu primjenu kao električnog izolatora u integriranim krugovima, gdje je konformni rast tankog filma preduvjet, a preferirani način rasta je taloženje atomskog sloja, Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> filmovi mogu se pripremiti kemijskom izmjenom između trimetilaluminija (Al(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>) i H<sub>2</sub>O:<ref>