
Европейские физики создали метод нанесения алмазных пленок нанометровой толщины на подложку из практически любого материала. В качестве тестовых образцов они создали несколько электронных устройств, а также механических резонаторов. Препринт работы выложен на сайте arxiv.org.
Авторы получали алмазные пленки на основе кварцевого субстрата, «усеянного» нано-алмазами, выступавшими в качестве зародышей будушей пленки. В качестве основного метода использовалось плазменно-химическое осаждение из газовой фазы (ХОГФ): субстрат помещался в водородную плазму с небольшой концентрацией метана, система поддерживалась при темпераутре 510-560 градусов Цельсия и давлении 33-40 миллибар.
Ключевой особенностью работы стала следующая идея авторов: условия роста пленки (температура, давление, наличие примесей) можно подобрать так, что по достижению определенной толщины она начнет трескаться. С одной стороны это ведет к тому, что нельзя получить алмазную пленку большой толщины, с другой стороны, таким путем можно добиться отслаивания фрагментов пленки от субстрата. Затем фрагмент нужного размера и формы можно поднять при помощи клейкой ленты и поместить на любую подложку, после чего ленту аккуратно отклеить: на этот процесс нужно около десяти минут.
