Наряду с развитой поверхностью это , по всей вероятности , основная причина высокой активности " плазменных " порошков , проявляющейся в таких процессах , как адсорбция и хемосорбция водяных паров и кислорода , взаимодействие с агрессивными средами , спекание , рекристаллизация .
наряду$28 с$0 развитый$1298 поверхность$1190 это$1082 ,$0 по$0 весь$2152 вероятность$1070 ,$0 основной$1122 причина$1068 высокий$1216 активность$1054 "$0 плазменный$1092 "$0 порошок$1072 ,$0 проявляться$1700 в$0 такой$1562 процесс$1320 ,$0 как$0 адсорбция$1068 и$0 хемосорбция$1068 водяной$1092 пар$1072 и$0 кислород$1052 ,$0 взаимодействие$1066 с$0 агрессивный$1112 среда$1154 ,$0 спекание$1066 ,$0 рекристаллизация$1068 .$0