Abstract高い感受率と高いガラス転移温度を有する2次非線形光学材料を作製する目的で、高い感受率を有する非線形官能基を高いガラス転移温度を有する高分子に側鎖として導入することとし、まず本材料の合成のキ-化合物となるポリイミド前駆体であるポリアミド酸の合成に着手した。合成は側鎖の非線形光学官能基の合成から始め、文献より選択した高感受率の基の合成を行なった。この官能基において非線形光学効果を出すための電子供与基はアミノ基、電子吸引基はトリシアノエチル基であり、共役π電子系にトリソアンエチニル基の導入を考えて、チオフェレ構造が末端に導入してある。ポリイミドのモノマーとして必要なテトラカルボン酸無水物を側鎖基とトリメリト酸無水物クロリドと反応させて合成し、ジアミノジフェニルエーテルとの反応でポリアミド酸とした。ポリアミド酸は通常のフィルムキャストのみならず、LB法によっても超薄膜にされ、非線形感受率を測定されるはずである。その他はポリアミド酸の時とポリイミドの場合と比較検討され構造と感受率との議論がなされる。