審議を経て,経済産業大臣が改正した日本工業規格である。改正され,この規格に置き換えられた。この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願,実用新案権又は出願公開後の実用新案登録出願に抵触する可能性があることに注意を喚起する。権,出願公開後の特許出願,実用新案権又は出願公開後の実用新案登録出願に係る確認について,責任はもたない。性及び記述の適正化を図る必要があるために改正した。対応国際規格は現時点で制定されていない。曲線を測定する方法について規定する。次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの引用規格は,その最新版(追補を含む。温槽を組み合わせたものとする。a)電解槽は,通常,ガラス製で,試料室と対極室との試験溶液の混合を防止した構造とする。mm2以上の白金を用いる。c)照合電極には,飽和甘こう電極,銀・塩化銀電極などを使用する。照合電極は,液橋又は塩橋を介して電解槽と接続する。mm程度の位置に設置する。記録計は,X−Y記録計又はパーソナルコンピュータとする。規定する試験方法(純度)による。以上を用い,測定ごとに溶液を更新する。mm2の試験面が板状供試材の圧延面となるように採取する。試験片の切断は,通常,のこぎり切断,切削又はせん断による。せん断による場合は,試験面にせん断の影響が及ばないようにするため,せん断の影響が及ぶ領域を切削又は研磨によって除却する。研磨方法は,試験面の温度上昇を避けるため,湿式研磨とする。試験面は,研磨処理をした後,蒸留水,イオン交換水,エタノールなどで十分に洗浄し,室温にて乾燥する。時間以上経過してから行う。導線は,はんだ付け,スポット溶接又は電導性塗料で試験片の一端に接続する。mm2となるように,残りの表面及び導線をエポキシ樹脂,ビニル樹脂,シリコーン樹脂などの絶縁物により被覆又は埋め込みを行う。mm2の露出部分は,はんだ付け又はスポット溶接などによる熱影響のない試験面となるようにする。