NF3で表される無機化合物。半導体化学でエッチングガスとして使われるため、使用は増加傾向にある。外部リンク用途[編集]三フッ化窒素はシリコンウェハーのプラズマエッチング(英語版)に使われる。液晶ディスプレイやシリコンベースの太陽電池フィルム用のプラズマCVD処理室の洗浄に使われる。このガスが分解してできるフッ素のラジカルがポリシリコン(英語版)や窒化ケイ素や二酸化ケイ素と反応して分解させる。三フッ化窒素はケイ化タングステン(タングステンシリサイド(英語版)、WSi2)と一緒に化学気相成長させて、タングステンを作るのにも使われる。NF3は当初、ヘキサフルオロエタン(英語版)や六フッ化硫黄のようなパーフルオロカーボンと比べて環境に与える悪影響が少ないと考えられていた[1]。近年フッ素ガスが、三フッ化窒素よりも環境への負荷が小さい代替品として、フラットパネルや太陽電池の量産工程用として導入されている[2]。三フッ化窒素は取り扱いの容易さと安定性から、化学レーザーの一種であるフッ化水素レーザーに用いられる。フッ素と窒素からは直接合成できない珍しい例である。ほとんどの元素はフッ素ガスと反応し、時には激しく反応する。反応させることはできない。得ることができた[3]。これにより、三フッ化窒素は三塩化窒素よりもはるかに反応性が低いことが判明した。今日では、アンモニアとフッ素ガスを反応させる方法を使ったり、ラフの方法を改良した方法を使ったりする[4]。NF3は気体であり、高圧ボンベに入れて輸送される。反応[編集]NF3は水にわずかに溶ける。水と反応することはない。