学会での成功の次は製品化である。ADAM7は「HM6147」と名付けて市場に投入することが決まった。製品版の開発期間は1978年の第1四半期から第4四半期まで。1978年末には量産が始まった。歩留まりは0~3%ところが,歩留まりは0~3%という体たらくである。問題の根は,ADAM7と同様にネガ・プロセスで3μmルールを実現しようとしたことにあった。学会発表用のチップの試作と,製品の量産では難しさのケタが違う。業界の一般常識からすれば,3μmルールは高解像度のポジ・レジストを使うべきである。ポジ・レジストは機械的強度が弱いため,マスクがレジストに接触する従来の接触露光技術が使えず,非接触の近接露光技術を導入する必要があった。予算や時間の制約から,その手は使えない。武蔵工場で試作を担当した常松政養は,ポジ・レジストで従来の接触露光を試してみた。マスクが接触した途端にポジ・レジストはボロボロになった。仕方なく,従来のネガ・レジストを使った接触露光を改良することにした。現像時に膨張しにくいレジストの開発を材料メーカーに依頼し,現像液の中に膨張を抑制する薬液を入れる。これで何とか3μmを形成できるようになった。Technologyの池田修二氏。このほかにも,多くの技術者が開発や量産にかかわった。写真と所属はいずれも2007年現在のもの。それでも歩留まりは散々だった。原因の一つは多結晶Si上に形成するSiN保護膜が帯電し,多結晶Siの抵抗値を狂わせること。紫外線を照射して帯電をなくす方法を内堀清文が考案したものの,試してみると効果がまちまちである。試作から量産への技術移管を担当していた池田修二は,紫外線が弱いのではないかと考え,紫外線の照射装置をのぞき込んで工夫を凝らした。翌朝,池田は鏡に映った自分の顔を見て仰天した。目が真っ赤に充血している。工場に出ると,昨日一緒に作業していた技術者も同じだった。紫外線を浴びすぎたらしい。※コメントの掲載は編集部がマニュアルで行っておりますので、即時には反映されません。コメントを受け付けましたコメントを受け付けました。ご協力いただき、ありがとうございます。投稿していただいたコメントは、編集部が査読した上で公開します。即時公開はされません。明らかな間違いや不適切な表現があった場合、原文の意図を損なわないと思われる範囲内で変更をさせていただく場合があります。内容がふさわしくないと判断した場合、公開後でも削除する場合があります。Reserved.このページに掲載されている記事・写真・図表などの無断転載を禁じます。著作権は日経BP社、またはその情報提供者に帰属します。表示切替:スマホ|パソコン。