当者が作成した手順書によって調整を行う。倍を超える幅”を意味する。酸素ビーム照射時の試料チャンバーへの酸素ガス導入時には,酸素ガス圧及びすべての一次イオンビーム照射条件はすべての試料において同一にする。8.2二次イオン質量分析計の設定条件の最適化8.2.1必要な装置条件を設定し,装置製造業者の作業手順書又は装置担当者が作成した手順書によってイオン光学系の調整を行う。8.2.2一次イオン電流及び質量分析計の安定性を,装置製造業者の作業手順書又は装置担当者が作成した手順書によって確認する。二次イオン質量分析計に試料を導入する直前に,試料表面のちり微粒子をダストブロワを利用して除去する。奨する真空度に回復するまで測定を開始してはならない。分析室の残留ガスによって11B28Si−信号のバックグラウンドとなる10B28Si1H−が発生する。このバックグラウンドは,分析室の真空度を改善することによって低減することができる。記載したバックグラウンドに注意が必要である。8.4検出イオン8.4.1酸素イオンビームを用いる場合は,10B+及び11B+の両方をボロンの二次イオン種として検出する。セシウムイオンビームを用いる場合は,10B28Si−及び11B28Si−の両方をボロンの二次イオン種として検出する。8.4.2装置製造業者の作業手順書又は装置担当者が作成した作業手順書によって,適切なイオン強度をもつシリコンの二次イオン種を検出し,シリコンイオン強度として用いる。8.4.3装置が電流を検出するモードの場合は,B+イオンの参照元素イオンとして電流計を用いて28Si+を検出する。BSi−を検出する場合は,Si2−を参照元素イオンとして検出する。以下に設定することが望ましい。SiHクラスターイオンが干渉する。元素イオンとして検出する。8.5分析対象試料の測定8.5.1測定は,試料ホルダーの窓の中央の領域を用いて行う。8.5.2一次イオン電流及びビーム走査領域は,深さ方向分布の詳細が分かるよう,十分なデータポイントが得られるように選ばなければならない。