Abstract酸化チタン光触媒は、紫外光照射によって様々な有機物を分解し、防汚・防錆効果を示すことから、建材や医療器具など多方面において活用されている。その光触媒反応機構は未だ完全に解明されていない。非接触反応を応用した新規パターニング法、光触媒リソグラフィー法の高活性化を図った。これまで、酸化チタンによる非接触酸化反応の進行を確認していたが、それ以外の光触媒による非接触酸化反応を確認したことがなかった。そこで、酸化チタン以外の様々な光触媒を用い非接触酸化の進行を確認した。分解、及びダイヤモンド表面の酸化を確認していたが、新たに、銅や銀などの金属、PVDF、シリコンなどの酸化が可能であることを見出した。テフロンのみは全く酸化できないことも確認した。これらの結果から、非接触酸化反応ではヒドロキシルラジカル、またはそれと同等以上に強い化学種が反応化学種として関与している可能性が高いことを見出した。これまで、非接触酸化反応を応用した光触媒リソグラフィー法によって有機膜のパターニングが可能であることを報告していた。本研究では、基板の撥水性を高め、より高い水の濡れ性のコントラストを得ることと、光触媒リソグラフィー法の加速を試みた。基板には適度な凹凸をもつシリカ膜に長いアルキル鎖をもつシランカップリング剤を修飾した膜を用い、水接触角が150度以上という超撥水膜を得ることに成功した。その超撥水膜の非接触酸化を行ったところ、非接触酸化反応の加速に成功した。超掻水・親水パターンの作製に成功した。この手法によって水の流路を正確に制御できることを示した。ケミカルチップやバイオチップ、ラボオンチップなどへの応用が期待される。