保行2016-09-09Description実験室に設置可能な数百keV級の小型イオンマイクロビーム装置を開発しており、これまでに120keVでビーム径5.8μmを得た。本装置では、加速と集束を同時に行う加速レンズ系を採用しており、その集束メカニズムのために、より低いエネルギーのビームをレンズ系に入射することで縮小率を向上できる。そこで、更にビーム径を縮小することを目的に、イオン源のビーム引出電場の強さを変えないことで入射ビームの物点径と発散角を保ったままビームエネルギーを低めるために、イオン源のアノード電極と引出電極の間の距離をこれまでの3分の2へと短くした。その結果、ビーム径が1.8μmへと縮小した。Informatics。