MyページログアウトクローズアップA.ICMOCESKickstarterお使いのブラウザは最新版ではありません。最新のブラウザでご覧ください。レジスト、カリックスアレーンを開発し、トクヤマが販売を始めたと発表した。この超高解像度レジストは、ベンゼン環をリング状に4個接続した直径0.7nmの低分子量レジスト材料を使用している。主な特徴は以下の通り。高純度化プロセスを開発し、金属不純物の濃度を低減したことで、LSIのプロセスラインへの導入に対応クロロメチル化により、電子線に対する感度が向上NECは、同レジストを用いた微細パターン形成技術、FineNanoを微細MOSデバイスのゲートとして使うポリシリコンの加工に適用し、線幅10nm、高さ60nm、周期35nmという高アスペクト比のパターン形成にも成功した。「この開発は、従来よりもさらに微細なゲートを必要とする将来のLSI用極微細トランジスタの試作/評価を可能にするものだ。当サイトは最新ブラウザでの閲覧を推奨します。permission.。