会告フォトポリマー懇話会は、感光性樹脂(フォトポリマー)に関する情報を発信する学術団体です。このホームページはフォトポリマー懇話会(TAPJ)のオフィシャルサイトです。機構における先導的プロジェクト及び基礎基盤研究の一層の推進に資する若手研究者を募集します。詳細は、以下、機構ホームページをご参照下さい。【Email】recruit@qst.go.jp(募集分野)上記、機構ホームページをご確認下さい。2,000円[参加申込]当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。・上記参加費には、講演要旨集1冊を含みます。『次世代リソグラフィ技術の展開』[趣旨]次世代リソグラフィ技術とそこに展開するフォトポリマーとの係わりについて、3件の講演を企画した。現行リソグラフィの延長線上にあるEUVリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィおよび自己組織化(DSA)技術について概説していただく。2,000円[参加申込]当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。氏EUVリソグラフィについて、ハードウェア(露光機)、プロセスおよびマスク、レジスト材料など量産適用のための技術開発が進められているが、光源開発などのさらに改良が必要な課題も残されている。このような状況の中で、技術開発の現状について概説していただく。氏20nm以下の微細パターン形成技術として、半導体量産用のナノインプリント技術が注目されている。量産化に向けてハードウェア、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。含めて概説していただく。氏20nm以下の微細パターン形成技術として、自己組織化(DSA)技術が注目されている。量産化に向けてハードウェア、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。含めて概説していただく。Photopolymers,Japan。