フォトマスクの計測および修復ツールとSynopsys社のためのリーディングサプライヤである、社(Nasdaq:SNPS)、半導体の設計、検証および製造ツールならびにIPの世界的リーダーは、本日、ツァイスツールファミリをサポートするためのコラボレーションを発表しました。32ナノメートル(nm)テクノロジーノードと下用のダイ計測ソリューションのための。シノプシスは、ツァイスCATSのTM、最先端技術をマスクデータ作成ソリューション"は、Synopsys社を通じて、TM、次世代の登録計測ツールがあると判明した"ためのサポートを提供します。データ準備のエンジンとしてCATSを使用して、あることが判明を使用してマスクのエンジニアは改善された効率と厳しい重ね合わせ精度の要件を満たしている登録計測システムの使いやすさの恩恵を受けることができます。CATSでマスクデータの準備がさらに判明したの効率を強化していきます。nmのリソグラフィを拡張するよりフォトマスクのパターン配置精度を要求するために必要なダブルパターニング技術、。nmの照明光学系のその画期的なコンセプトを持つこれらの増加要求に応えます。それは、マスクメーカーは、マスク上のクリティカルな領域での登録を測定し、分析できるように、トンボをかけることなく最小の生産機能の測定のためのダイ計測能力を提供します。新しいCATSのモジュールは、現在のところ限られた顧客の可用性と、2011年3月に一般に利用可能で、フォトマスクの計測ジョブのセットアップのための、高速で効率的かつ完全に自動化されたフローを可能にします。OASIS.MASKとXML、高度なマーキング機能と2次元(2D)相関法と判明した業界標準のオープンフォーマットを使用して、CATSは、従来の画像解析の手法を大幅に強化しています。革新的な方法は、エッジに基づく1次元の測定値を使用して標準的な方法に比べて高い測定精度で、その結果、判明したことにより取得されたマスク上の画像でCATSが提供するマスクの2次元設計のクリップを比較します。"ノウハウダイの計測におけるシノプシスのマスクデータの準備とカールツァイスの長期的な経験"で、そのエキサイティングな機能を備えた新しいCATSのモジュールは大幅に任意の生産機能にマスクの登録エラーを減らすのに役立つだろう"と博士は言ったディルクベイヤー、カールツァイスSMS社で判明したのプロダクトマネージャー。登録エラーでは、マスクメーカーはダブルパターニングとマスクからマスクのオーバーレイで配置エラーを低減するための完全に新しいツールを与え、無解像度の制限付きで各マスクのために定量することができる。"シノプシスシリコンエンジニアリンググループ"カールツァイス社との​​コラボレーションは、包括的なリソグラフィ、検査およびマスク製造市場に計測ソリューションを提供するために我々のコミットメントを例示"、ファビオAngelillis、Synopsys社のエンジニアリング担当副社長だ"は。"と判明をサポートするためのCATSを拡張することで、我々は以下の32ナノメートル技術ノードでお客様に高品質な計測ソリューションを提供している、"と彼は付け加えた。