Gravação de 10 nm em bolachas de silício de 450 nm !
Pat Gelsinger, diretor tecnológico da Intel, explica no site Chanel Web que a Intel saiu em ótima colocação na corrida para os processadores dos próximos anos.
Segundo ele, a Intel será uma das raras empresas dotadas de suas próprias fábricas de produção de chips a ser capaz de fazer evoluir suas linhas de produção para passar às "bolachas" de silício (wafers) de 450 mm de diâmetro, entre 2010 e 2015. TSMC e Samsung estavam também na corrida, mas "todas as empresas pesando menos de um bilhão de dólares não serão tão grandes para efetuar essa próxima grande transição e não terão êxito na evolução da lei de Moore."
Gelsinger, a seguir, explica que a Intel deverá estar pronta para uma gravação em 10 nm nos 10 próximos anos. "Hoje, prevemos claras possibilidades para passar a barra dos 10 nm. Com a lei de Moore, temos cerca de 10 anos de visibilidade no futuro, porém na escala dos 10 nm não estamos ainda certos como nós chegaremos lá", avalia ele.
Segundo Gelsinger, a Intel tem agora um caminho claro para atingir o chip de 10 nm!
A Intel está atualmente em 45 nm e prevê passar aos 32 nm no próximo ano. Virão a seguir os estágios de 22 nm e 14 nm, nos anos seguintes, para passar, então, aos 10 nm ao longo da próxima década. "Não sabemos se serão os nanotubos de carbono ou a spintrônica, mas continuaremos a avançar", finaliza Gelsinger.