ReP USP - Detalhe do registro: Remediation of polluted soils contaminated with linear alkylbenzenes using fenton's reagent
DOI: 10.1590/s1516-89132005000400032
Subjects: COMPOSTOS ORGÂNICOS; DEGRADAÇÃO AMBIENTAL; FOTOQUÍMICA; OXIDAÇÃO (PROCESSOS); POLUIÇÃO AMBIENTAL
Abstract: Os Linear Alquilbenzenos (LABs) são usados como fluido refrigerante de cabos elétricos. Quando ocorre um vazamento, os LABs ficam basicamente adsorvidos no solo, pois, são compostos bastante hidrofóbicos e com baixa pressão de vapor. Os métodos convencionais de tratamento de solos não são eficientes. A reação de Fenton (solução de ferro II e peróxido de hidrogênio) gera radicais hidroxila, não seletivos, e capazes de oxidar uma grande variedade de compostos orgânicos, chegando a mineralização dos mesmos. Neste trabalho foi estudada a viabilidade de utilização dos reagentes de Fenton para promover a remediação de solos contaminados com LABs. Utilizou-se uma coluna especialmente projetada para estes experimentos, empacotada com um solo arenoso e outro argiloso. O pH do solo não foi alterado. Os resultados obtidos demonstram a viabilidade técnica do processo de injeção dos reagentes de Fenton para o tratamento de áreas contaminadas com LABs.
Publisher place: Curitiba - Brasil
Volume/Número/Paginação/Ano: v.48, n.spe., p.257-265, Jun. 2005
Informações sobre o DOI: 10.1590/s1516-89132005000400032 (Fonte: oaDOI API)
SILVA, Douglas do Nascimento; ZAGATTO, Paulo José Piacentini; GUARDANI, Roberto; NASCIMENTO, Cláudio Augusto Oller do. Remediation of polluted soils contaminated with linear alkylbenzenes using fenton's reagent. Brazilian Archives of Biology and Technology, Curitiba - Brasil, v. 48, n. Ju 2005, p. 257-265, 2005. Disponível em: < http://www.scielo.br/scielo.php/script_sci_serial/lng_pt/pid_1516-8913/nrm_iso > DOI: 10.1590/s1516-89132005000400032.
Silva D do N, Zagatto PJP, Guardani R, Nascimento CAO do. Remediation of polluted soils contaminated with linear alkylbenzenes using fenton's reagent [Internet]. Brazilian Archives of Biology and Technology. 2005 ;48( Ju 2005): 257-265.Available from: http://www.scielo.br/scielo.php/script_sci_serial/lng_pt/pid_1516-8913/nrm_iso