Neste seminário online, apresentaremos uma mistura de diferentes soluções para ajudar a garantir e controlar a qualidade durante praticamente todas as etapas de todo o processo de produção de wafer.
Medições de rugosidade e altura de superfície reprodutíveis, quantitativas e rápidas com alta precisão usando o AFM: Esta tecnologia é conhecida por sua precisão e reprodutibilidade inigualáveis, mas tem sido consideradas muito demoradas e, portanto, não muito eficientes. Neste seminário online, nos concentramos na utilidade e eficiência da nova geração das medições do Tosca AFM e mostrar os benefícios de uma análise eficiente, rápida e confiável de wafer AFM.
A caracterização mecânica de superfície das camadas sobre os wafers em nanoescala com medições de nanoindentação e riscos nano: Estas duas técnicas podem ser usadas para medir a dureza, adesão ou resistência a riscos de filmes finos sobre wafers em produção de microchip ou sobre camadas protetoras no vidro em fabricação de telas.
Medição de Concentração precisa, rápida, eficiente e segura dos produtos químicos para produção de semicondutores: Aprenda como é fácil usar um densímetro digital para determinar a concentração de diversos ácidos e bases. O alto desempenho da medição é fundamental para a inspeção de qualidade durante etapas de gravação e limpeza na indústria de semicondutores.