Wagner Henrique Rabelo - Biblioteca Virtual da FAPESP
Wagner Henrique Rabelo
Wagner Henrique Rabelo em auxílios à pesquisa e bolsas apoiadas pela FAPESP.
O projeto consiste na conclusão do protótipo comercial de uma fonte de potência (300W), de corrente alternada (600 VAC), operando entre 10 a 40 kHz, responsável por iniciar e sustentar o campo elétrico utilizado para a geração do plasma. Esta fonte será utilizada para a deposição de filmes finos por meio da técnica de magnetron sputtering sendo uma alternativa à tecnologia em rádio fre...
Fonte de potência para síntese de filmes finos por pulverização catódica na faixa de kHz - sistema de medição de tensão, corrente e potência, AP.PIPE
O avanço das técnicas de deposição de filmes finos sobre as superfícies dos materiais tem permitido agregar valor e dar novas funcionalidades aos produtos. Atualmente, os filmes finos têm encontrado grande aplicação no mercado. Entretanto, hoje a técnica de deposição mais utiliza é com fonte de energia em RF (Rádio Frequência), que apresenta um custo elevado e maior complexidade de ins...
Fonte de potência para síntese de filmes finos por pulverização catódica na faixa de kHz: sistema de medição de tensão, corrente e potência, BP.PIPE
Circuitos Elétricos, Magnéticos e Eletrônicos Circuitos elétricos Dopagem eletrônica Eletrônica de potência Engenharia Elétrica Engenharia de Materiais e Metalúrgica Engenharias Filmes finos Plasma Pulverização catódica