ASML (AS: ASML), yarı iletken üretimine yönelik fotolitografi sistemlerinin başkan üreticisi ASML ) Cuma günü Hollanda’nın Veldhoven kentindeki genel merkezinde en son yeniliği olan 350 milyon dolarlık “Yüksek NA EUV” makinesini tanıttı. Çift katlı otobüs büyüklüğündeki bu yeni araç, ASML’nin 125 milyar dolarlık pazardaki hakimiyetini sürdürmesinde merkezi bir rol oynayacak.
Intel gibi üst düzey yarı iletken üreticileri için özel olarak tasarlanan “High NA EUV” makinesi ilk kez tanıtıldı. ASML, kesin sayı henüz belirlenmemiş olsa da, yıl içinde bu birimlerin bir kısmını üretip göndermeye hazırlanıyor. Şirket, yeni ekipmanlara yönelik özelleştirme ve kurulum çalışmalarının devam ettiğinin altını çizdi.
ASML sözcüsü Monique Mols, yeni makineyi üretim sistemine entegre etmenin karmaşıklığını vurguladı. “Mühendislik yapmaya ve geliştirmeye devam ediyoruz ve onu kalibre etmek ve üretim sistemine uyduğundan emin olmak için yapılacak çok iş var” dedi. “Bizim ve müşterilerimiz için de zorlu bir öğrenme eğrisi var.”
ASML’nin teknolojisi piyasada benzersizdir çünkü en gelişmiş çipleri oluşturmak için gereken ultraviyole (EUV) fotolitografi makinelerinin tek üreticisidir. “Yüksek NA EUV” bu teknolojinin yeni neslini temsil eder. Ancak bu cihazların yüksek maliyetleri nedeniyle müşterilerin benimsemesi belirsizliğini koruyor.
Semianaliz’den Jeff Koch, bazı çip üreticilerinin rekabet avantajı elde etmek için yeni teknolojiyi kullanmaya başlayabileceğini, ancak çoğunluğun ekonomik olarak uygulanabilir hale gelene kadar beklemesinin beklendiğini belirtti. Eski teknolojiden geçişin 2030-2031 civarında uygun maliyetli hale geleceğini öngörüyor. Analize göre bu durum, 2027-2028’de fabrikaların hızla artması ve sonraki yıllarda yaygın biçimde benimsenmesi nedeniyle ASML’de aşırı kapasiteye yol açabilir.
ASML’nin CEO’su Peter Wennink daha önce bölümün “Yüksek NA EUV” teknolojisinin potansiyelini hafife alıyor olabileceğini belirtmişti. Wennink Ocak ayında, “Şu anda müşterilerimizle yaptığımız görüşmelerde gördüğümüz her şey High NA’nın daha ucuz olduğu yönünde” dedi.
ASML’nin Yüksek NA iş yönetimi lideri Greet Storms, müşterilerin yeni araçla toplu üretime başlamasının beklendiği 2026-2027 civarında önemli bir değişikliğin beklendiğini belirtti. Intel halihazırda bir pilot cihaz aldı ve operasyonun ölçeği açıklanmasa da gelecek yıl üretime başlamayı planlıyor. TSMC ve Samsung da aracı kullanma niyetlerini dile getirdi ancak belirli bir zaman çizelgesi sunmadı.
Bugüne kadar ASML, bellek uzmanları SK Hynix ve Micron’a yönelik pilot cihazlar da dahil olmak üzere 10 ila 20 arasında sipariş aldı. Şirket, 2028 yılına kadar yılda 20 adede kadar ürün teslim edecek kapasiteyi geliştiriyor. ABD’nin ülkeye ileri teknoloji ihracatını sınırlama çabaları nedeniyle, bu gelişmiş makinelerin hiçbiri geçen yıl ASML’nin ikinci büyük pazarı olan Çin’e satılmayacak.
ASML, Çin’e satışların kısıtlanacağı yönündeki endişelere rağmen geçen ay güçlü bir sipariş defteri bildirdi ve bu da yatırımcıların endişelerini hafifletmeye yardımcı oldu. “Yüksek NA EUV” makinesinin hızlı bir şekilde benimsenmesi, ASML’nin litografi sistemlerindeki pazar liderliğini daha da güçlendirerek satışları ve marjları artırabilir. Bu sistemler, bilgisayar çiplerinin devreleri haline gelen silikon plakalar üzerindeki desenleri izlemek için kritik öneme sahiptir.
ASML, yeni aracın, çip üreticilerinin en küçük çip özelliklerinin boyutunu %40’a kadar azaltarak transistör yoğunluğunu potansiyel olarak üç katına çıkarmasına olanak sağlayacağını savunuyor. Şirket, eski nesil yongalara yönelik litografi makineleri üretiminde Nikon ve Canon ile rekabet ediyor ancak EUV litografi aracını pazarlayan ilk ve tek şirket olma benzersiz konumunu da elinde tutuyor.
“Yüksek NA EUV” makinesi, saniyede 50.000 kez gibi inanılmaz bir hızda ikiz lazer darbeleri kullanarak kalay damlacıklarını buharlaştırarak EUV ışığı yaratarak çalışır. Yeni makinedeki en önemli değişiklik, Carl Zeiss tarafından üretilen karmaşık durum aynalarından oluşan daha büyük optik sistemidir. Oldukça pürüzsüz bir seviyeye kadar parlatılan ve vakum içerisine yerleştirilen bu aynalar, seleflerine göre daha fazla ışık topluyor ve odaklıyor. “Yüksek NA” terimi, ASML’nin gelişmiş çözünürlüğe yol açtığı yüksek sayısal açıklığı ifade eder.
Reuters bu makaleye katkıda bulunmuştur.
Bu makale yapay zeka desteğiyle oluşturulmuş, tercüme edilmiş ve bir editör tarafından incelenmiştir. Daha fazla bilgi için Şartlar ve Koşullarımıza bakın.