messages: “The sacrificial layer or layers may also be based on silicon-germanium, particularly when the substrate used is of SON type, the upper layer then being based on monocrystalline silicon obtained by epitaxy from the layer of silicon-germanium itself epitaxied on the silicon based substrate.”
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messages: dear, could you translate this into french for me
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messages: “La ou les couches sacrificielles peuvent également être à base de silicium-germanium, notamment lorsque le substrat utilisé est de type SON, la couche supérieure étant alors à base de silicium monocristallin obtenu par épitaxie à partir de la couche de silicium-germanium elle-même épitaxiée sur le substrat de base de silicium.”
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